低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋技術(shù)參數(shù)：

低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋

低溫恒溫循環(huán)器的應(yīng)用領(lǐng)域：

1.材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。

2.物化領(lǐng)域：激光器、磁場(chǎng)、各種分子泵、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。

3. 生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。

4. 對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。

5.醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場(chǎng)核磁共振、X光機(jī)、降溫毯等。

6.對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

主要用途：

1、對(duì)旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、光化學(xué)反應(yīng)儀光源部分進(jìn)行低溫冷卻。

2、對(duì)雙層玻璃反應(yīng)釜夾層進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

3、對(duì)分光光度計(jì)的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

4、對(duì)超聲波破碎的試料進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

5、對(duì)激光加工機(jī)的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

6、對(duì)蝕刻裝置的電機(jī)部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

7、對(duì)電子顯微鏡的電源、光源部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

8、對(duì)工業(yè)用機(jī)械裝置的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

9、對(duì)電泳儀、粘度計(jì)、醫(yī)用冷帽、降溫毯進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

10、對(duì)電鏡、分子泵、離子泵、擴(kuò)散泵進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。