高精度低溫恒溫槽CHDC-0530內(nèi)外循環(huán)一體機(jī)

技術(shù)參數(shù)：

低溫恒溫槽/恒溫水槽油槽的使用說明及注意事項   

1.槽內(nèi)加入液體介質(zhì)，液體介質(zhì)液面不能低于工作臺板30mm。      

2.液體介質(zhì)的選用:      

A：工作溫度低于5℃時，液體介質(zhì)一般選用酒精。      

B：工作溫度5～80℃時，液體介質(zhì)一般選用純凈水。      

C：工作溫度80～90℃時，液體介質(zhì)一般選用15%甘油水溶液。      

D：工作溫度90～100℃時，液體介質(zhì)一般選用油。      

3. 循環(huán)泵的連接      

A：內(nèi)循環(huán)泵的連接，將出液管與進(jìn)液管用軟管連接既可隨機(jī)配一根軟管。      

B：外循環(huán)泵進(jìn)行外循環(huán)連接，將出液管用軟管連接在槽外容器進(jìn)口，將進(jìn)液管接在槽外容器出口注：儀器左面靠前的管為進(jìn)液管，背面的管為出液管。      

4.插上電源，開啟“電源"開關(guān)，開啟“循環(huán)"開關(guān)。     

5.儀表操作如下：      

A：移位，▲加數(shù)，▼減數(shù)，〖SET〗設(shè)定功能鍵。      

B：溫度設(shè)定：按設(shè)定功能鍵進(jìn)入溫度設(shè)定狀態(tài)，設(shè)定值末位閃爍，此時先按移位后按加減，設(shè)定您所需要的工作溫度，再按設(shè)定功能鍵并保存設(shè)定值，此時測量顯示的是當(dāng)前槽內(nèi)液體介質(zhì)的溫度，此后微機(jī)進(jìn)入自動控制狀態(tài)；所設(shè)定的工作溫度應(yīng)高于室內(nèi)溫度 8℃。      

C：如果工作溫度低于環(huán)境溫度時，開啟“制冷"開關(guān)制冷至所需溫度。

高精度低溫恒溫槽CHDC-0530內(nèi)外循環(huán)一體機(jī)

高精度低溫恒溫槽，又稱高精度低溫恒溫浴槽，是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，兼具小型冷水機(jī)的功能。廣泛應(yīng)用于石油、化工、冶金、醫(yī)藥、生化、物性，測試及化學(xué)分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質(zhì)檢部門。根據(jù)槽開口尺寸的不同，可在浴槽內(nèi)進(jìn)行恒溫實驗，亦可通過軟管與其他設(shè)備相連接，與恒溫源配套使用。

外循環(huán)：通過泵的循環(huán)能力，利用出水口將保溫軟管與外部設(shè)備連接，形成封閉回路，流回設(shè)備進(jìn)水口，是將槽內(nèi)恒溫介質(zhì)外引，建立外部恒溫場。內(nèi)循環(huán)：通過泵對槽內(nèi)液體介質(zhì)的循環(huán)吞吐，增加槽內(nèi)溫度的均勻性，減少溫度波動。 循環(huán)水恒溫的應(yīng)用領(lǐng)域： 生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器(合成器)等。材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機(jī)、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。物化領(lǐng)域：激光器、磁場、各種分子泵、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。